力源水处理
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高纯水设备
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     高纯水设备电子行业超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备.在严格执行ISO-9001国际质量体系标准的前提下,采用世界上最先进的反渗透膜元件.压力容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备,使产品出水符合各类电子行业生产标准的超纯水.控制系统选用PLC或计算机DCS程序控制,可实现自动起停、加药及冲洗,自动监测各种运行参数,并可实现运行参数的储存及打印 广泛适用于: 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管 超纯材料和超纯化学试剂 光导纤维、光盘。


    一、应用范围概述:电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 电子管生产 电子管阴极涂敷碳酸盐配液 显像管和阴极射线管生产配料用纯水黑白显像管荧光屏生产 玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水   液晶显示器的生产 屏面需用纯水清洗和用纯水配液 晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片 硅片纯水 光伏硅材料DI超纯水设备-硅圆生长/切片清洗高纯水 硅材料单晶硅DI


    二、典型工艺流程


       预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象 (≥18MΩ.CM)(传统工艺)


        预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(最新工艺)


       预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM) (最新工艺)   


       预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(最新工艺)


       处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)


    三、达到标准:


       纯化水标准,注射水标准 显像管、液晶显示器用纯水水质(经验数据)、集成电路用纯水水质、国家电子级纯水标准、美国SEMI标准


    四、设备特点


       为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上,取达国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。



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